1. กระบวนการพิเศษสำหรับโมดูล LCD อุตสาหกรรม
โมดูลการแสดงผลคริสตัลของเหลวอุตสาหกรรม (LCDS) ต้องการชุดของกระบวนการผลิตพิเศษเพื่อรักษาเสถียรภาพและความน่าเชื่อถือในสภาพแวดล้อมที่รุนแรงซึ่งแตกต่างอย่างมากจากที่ใช้ในผลิตภัณฑ์แสดงผลเชิงพาณิชย์ทั่วไป
สูง - กระบวนการแช่คริสตัลของเหลวอุณหภูมิ
อุตสาหกรรม - เกรด LCDS ใช้ประโยชน์จากวัสดุคริสตัลอุณหภูมิสูงโดยเฉพาะ - กระบวนการแช่ต้องการการควบคุมอุณหภูมิที่แม่นยำภายใต้สุญญากาศ หลาย - ทางลาดอุณหภูมิขั้นตอน (โดยทั่วไป 25 องศา→ 85 องศา→ 110 องศา) ทำให้มั่นใจได้ว่าการจัดตำแหน่งที่ดีที่สุดของโมเลกุลคริสตัลเหลวในระหว่างกระบวนการแช่ กระบวนการนี้ช่วยให้มั่นใจถึงประสิทธิภาพการแสดงผลที่มั่นคงภายในช่วงอุณหภูมิ -30 องศาถึง 85 องศาซึ่งเกินช่วงการทำงานของแอลซีดีทั่วไป 0-50 องศา
เทคโนโลยีพันธะที่ได้รับการปรับปรุง
การใช้การรวมกันของออปติคัล - เกรด UV - การบ่มกาวและร้อน - กดกระบวนการเคลือบ:
ก่อน - ขั้นตอนการบ่ม: ใช้แรงดัน 0.3 MPa ที่ 50 องศาเป็นเวลา 90 วินาที
ขั้นตอนการบ่มหลัก: ฉายรังสีด้วยหลอด UV 365Nm ควบคุมระดับพลังงานถึง 3000-3500 MJ/cm²
โพสต์ - การรักษาการรักษา: การรักษาความร้อนที่ 80 องศาเป็นเวลา 30 นาทีเพื่อเพิ่มพันธะอินเตอร์เซียล
กระบวนการพันธะที่ได้รับการปรับปรุงนี้ช่วยให้มั่นใจได้ว่าการต้านทานการสั่นสะเทือนของโมดูลเป็นไปตามมาตรฐานทางทหารที่ 5-500Hz/3G
multi - เลเยอร์ Anti - การรักษาแสงจ้า
โมดูลการแสดงผลอุตสาหกรรมใช้การต่อต้านสามครั้ง - กระบวนการจ้า: "การเคลือบแข็ง + โครงสร้างจุลภาค + การเคลือบ AR"::
การชุบแข็งฐาน: 3 - การเคลือบแข็งแบบใช้ซิลิคอน5μmด้วยความแข็งของดินสอ 8H
Surface Micro - การแกะ
Magnetron Sputtering Coating: สะสม 7 ชั้นของภาพยนตร์ MGF2/SIO2 สลับกัน<0.5%
กว้าง - การออกแบบวงจรไดรเวอร์อุณหภูมิ
ใช้อุณหภูมิ - ไดรเวอร์ชดเชย ic กับ:
64 เส้นโค้งแกมมาที่ตั้งโปรแกรมได้
อัลกอริทึมการชดเชยแบ็คไลท์แบบไดนามิก
- 40 องศาวงจรเริ่มต้นอุณหภูมิต่ำ
เซ็นเซอร์อุณหภูมิออนบอร์<3°C across the entire temperature range.
ii. ระบบวัสดุสำคัญ
ข้อได้เปรียบด้านประสิทธิภาพของโมดูล LCD อุตสาหกรรมส่วนใหญ่เกิดจากระบบวัสดุที่เป็นเอกลักษณ์
วัสดุพื้นผิว
High - Alumina - Silica Glass: Al₂o₃เนื้อหาของ 18 - 22%, ค่าสัมประสิทธิ์การขยายตัวทางความร้อน 3.2 ×10⁻⁶/ องศา
สารตั้งต้นที่ยืดหยุ่น: วัสดุโพลีอิมด์ (PI) ความต้านทานอุณหภูมิเกิน 300 องศาโดยมีรัศมีการดัดสูงถึง 3 มม.
ฟิล์มออปติคัลฟังก์ชัน
ฟิล์มควอนตัมดอทขั้นสูง: CDSE/ZNS CORE - โครงสร้างเปลือก, ขนาดอนุภาคควบคุมที่ 8-12NM, โทนสีสีถึง NTSC 110%
ฟิล์มโพลาไรซ์สะท้อนแสง: ฟิล์มโพลิเมอร์หลายชั้น DBEF ปรับปรุงการใช้งานแสง 60%
วัสดุคริสตัลเหลวพิเศษ
คริสตัลเหลว Ferroelectric: เวลาตอบสนอง<100μs, suitable for high-speed refresh applications
พอลิเมอร์ - คริสตัลเหลวที่มีความเสถียร: เพิ่ม 5 - โมโนเมอร์ปฏิกิริยา 8% สร้างโครงสร้างเครือข่ายสามมิติหลังจากการบ่ม UV
วัสดุนำไฟฟ้า
ขั้วไฟฟ้านาโนซิลเวอร์: เส้นผ่านศูนย์กลาง 30-50Nm, ความต้านทานสี่เหลี่ยมจัตุรัส<10Ω/□, transmittance >92%
Graphene transparent circuit: Carrier mobility >1,000Cm²/V · S
iii. เทคโนโลยีการปรับปรุงความน่าเชื่อถือ
เทคโนโลยีการปิดผนึกขอบ
อีพอกซีเรซิน - วัสดุปิดผนึกผงแก้ว:
องค์ประกอบหลัก: Bisphenol A Epoxy Resin (60-70%)
ฟิลเลอร์: ผงแก้ว Borosilicate (ขนาดอนุภาค2-5μm)
สารบ่ม: เอเจนต์การบ่มแฝงของกรดแอนไฮไดรด์แฝง
อัตราการส่งไอน้ำ<0.01g/m²·day, 10 times better than ordinary butyl rubber
การรักษาด้วยคลื่นแม่เหล็กไฟฟ้า
พื้นผิวฟิล์ม ITO: ความต้านทานสี่เหลี่ยมจัตุรัส100Ω/□, การป้องกันประสิทธิภาพ 30dB @ 1GHz
กริดโลหะ: ตาข่ายลูกบา
anti - การเคลือบการกัดกร่อน
การเคลือบแบบสอดคล้องโดยใช้ parylene ที่ดัดแปลง:
ความหนาของการสะสม8-12μm
ไม่มีการกัดกร่อนหลังจากทดสอบสเปรย์เกลือ 1,000 ชั่วโมง
ความแข็งแรงของอิเล็กทริก> 5000V/มม.
iv. ทิศทางกระบวนการที่เกิดขึ้นใหม่
เทคโนโลยีเลเซอร์ micromachining: ความแม่นยำในการตัดเลเซอร์ UV ที่±2μm, ความร้อน - โซนที่ได้รับผลกระทบ<5μm
การพิมพ์หิน Nanoimprint: ความสามารถในการสร้างรูปแบบอิเล็กโทรดโปร่งใสด้วย linewidth 150nm
การสะสมชั้นอะตอม (ALD): การเจริญเติบโตของฟิล์มAl₂o₃สิ่งกีดขวางที่มีอัตราการส่งผ่านน้ำและออกซิเจนต่ำสุดที่10⁻⁶g/m²·วัน
การประยุกต์ใช้กระบวนการและวัสดุพิเศษเหล่านี้ทำให้โมดูล LCD อุตสาหกรรมสมัยใหม่สามารถบรรลุเวลาเฉลี่ยระหว่างความล้มเหลว (MTBF) เกิน 100,000 ชั่วโมงปรับให้เข้ากับความต้องการของสภาพแวดล้อมอุตสาหกรรมที่รุนแรงเช่นอุตสาหกรรมน้ำมันพลังงานและการขนส่งทางรถไฟ ด้วยความก้าวหน้าของวิทยาศาสตร์วัสดุระบบวัสดุใหม่เช่นผลึกเหลวกราฟีนและจุดควอนตัม perovskite กำลังผลักดันเทคโนโลยีการแสดงผลอุตสาหกรรมสู่ประสิทธิภาพที่สูงขึ้น